11月15日，至纯科技召开2021年第三次临时股东大会，审议通过“调整公司公开发行A股可转换公司债券方案”等四项议案。新方案募集资金仍为不超过11亿元，原方案中的“集成电路大宗气体供应站及配套项目”换成了“半导体设备模组及部件制造项目”，资金也更加向前两个项目集中。新方案投向为“单片湿法工艺模块、核心零部件研发项目”“至纯北方半导体研发生产中心项目”“半导体设备模组及部件制造项目”以及“补充流动资金或偿还银行贷款”；拟募投资金分别为3.5亿元、2.5亿元、1.7亿元、3.3亿元。公司表示，方案调整的原因系公司半导体设备需求旺盛，希望加快相关技术应用，大宗气体项目将用自有资金继续建设。

据悉，至纯科技2021年前三季度实现营业收入12.83亿元，同比增长68.71%；实现归母净利润1.88亿元，同比增长127.96%。公司主营业务包括半导体湿法清洗设备、高纯工艺系统、光传感应用及相关光学元器件的研发、生产和销售。

公司半导体湿法清洗设备包含湿法槽式清洗设备及湿法单片式清洗设备。该类设备可以应用在先进工艺上，主要为存储（DRAM，3DFlash）、先进逻辑产品等。目前至纯科技是国内能提供到28纳米节点全部湿法工艺的本土供应商。客户包括中芯国际、华虹集团、长鑫存储、华为、华润、燕东、台湾力晶等。

根据Gartner统计数据，2024年预计全球半导体清洗设备市场销售额达31.93亿美元。但事实上，2020年全球半导体清洗设备市场基本上被日本SREEN、日本TEL、韩国SEMES和美国LAM垄断，市场销售额合计占比97.7%，国产厂商至纯科技、盛美中国、北方华创、芯源微等份额较低。作为国内半导体清洗设备龙头企业，至纯科技2020年相关业务收入仅为2.2亿元。

不过，光大证券研报表示，至纯科技半导体湿法清洗设备业务开始步入高速成长期，2021年上半年，公司新增湿法设备订单达4.3亿元，其中单片设备就达2亿元。该研报预计，2021-2022年，至纯科技湿法设备业务收入将达7.68亿元和13.90亿元。

公司深厚技术积累和广阔市场前景也引来了大基金关注。今年10月份，至纯科技半导体湿法清洗设备控股子公司至微科技拟通过增资扩股引入战略投资者并进行部分股权转让。交易完成后，战略投资者持有至微科技的比例约22%，增资方包括大基金二期、混改基金、中芯聚源、装备材料基金、芯鑫鼎橡、远致星火等。

除了半导体湿法清洗设备，至纯科技在半导体高纯工艺系统方面也保持高研发投入。在用户价值上聚焦六个词“高纯、工艺、节能、环保、自动化、智能化”。该领域的投入兼具经济效益和社会效益。

据介绍，泛半导体工艺伴随许多种特殊制程，会使用到大量超高纯（ppt级别）的干湿化学品，这是完成工艺成果的重要介质，其特点是昂贵并伴随废气液排放。在集成电路领域，高纯工艺系统主要包括高纯特气系统、大宗气体系统、高纯化学品系统、研磨液供应及回收系统、前驱体工艺介质系统等。其中，各类高纯气体系统主要服务于几大干法工艺设备，各类高纯化学品主要服务于湿法工艺设备。

目前公司高纯工艺系统客户包括中芯国际、华虹华力、华润、士兰微、长江存储、长鑫存储、海力士，以及三星、台积电、力晶等。